光刻技术的未来替代技术：纳米压印技术（Nanoimprint Lithography，简称NIL）

纳米压印（Nanoimprint Lithography，简称NIL或NIP）与光刻技术（Lithography technology）

与传统的光刻技术（Lithography technology），纳米压印技术具有诸多优势。第一，它具有高效率，可以大幅提升生产速度，降低成本。第二，纳米压印技术可广泛用于其他领域，拓宽了应用范围。第三，纳米压印技术在材料选择上更加灵活，不仅是硅基材料，还可以选择有机和柔性材料，提高了实用性。

另外，纳米压印替代的是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压印技术代替，和其他的标准制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业。

纳米压印（Nanoimprint Lithography）的挑战和发展

虽然纳米压印技术（Nanoimprint Lithography，简称NIL或NIP）有不少的优点，但是纳米压印技术也还有一些短板。

1、良品的控制

纳米压印技术需要晶圆和掩膜直接接触，电路上容易混入细小垃圾和灰尘，要实现实用化，必须进行运用和制造技术方面的改良。

2、模板寿命低，更换的成本高

不管是DUV光刻、EUV光刻还是纳米压印，最贵的耗材都是掩膜版或者压印模板。纳米压印技术的模板是需要直接接触压印胶工作的，在接触的过程中难免会有各种各样的损伤或者污染，缩短模板的寿命。

3、对准困难

压印模板需要与承载压印胶的基台精确对准、贴合，需要精密的机械装置配合检测设备实施压印过程。而现有纳米压印设备在平行与垂直对准方面缺少高精密的调准机构，虽然我们可以沿用光刻上的光学对准或者莫尔条纹技术对准，但是纳米压印不仅有固化，还有垂直方向的压印运动过程，因此会带来多方向的偏差。

纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL或NIP），是一种微纳加工技术。其中纳米压印的分辨率由印模板图形的大小决定，由于物理上没有光刻技术中的衍射限制，纳米压印技术可以实现纳米级线宽的图形。

我司引入微纳加工纳米压印技术批量生产纳米光栅、纳米孔、纳米柱等产品，建立纳米光栅、纳米孔、纳米柱等标准化产品库，满足客户需求。

纳米压印原理

光刻技术（Lithography technology）的本质是掩膜版用于对光刻胶进行图案化，从而实现图案化沉积和蚀刻工艺，光刻工艺的分辨率由所用光源的波长决定。

而微纳加工纳米压印技术是将设计和制作在模板上的微观图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的基板上。这种技术不仅能提高工艺的分辨率，还能为设计器件提供更多的自由度。