电动平移台（1μm超高精度）

Zaber针对近要求超高精度的应用，推出了超高精度的X-LDM-AE系列电动平移台（1μm超高精度）。这款高精度平移台具有60，110，210 mm三种行程选择。本身使用Zaber新型线性编码器，内部采用无铁芯非接触式直线电机，实现1μm的位置精度（Accuracy）。

所属品牌： Zaber

产品介绍

作为Zaber引以为傲的新产品，X-LDM-AE是一款具有1μm高精度线性平移台，英文名Linear Motor Stage。X-LDM-AE系列电动平移台说的详细点是一种移动磁道电动线性平移台，这款高精度电控平移台适用于要求出色的精度，和可靠性的应用。它能够通过菊花链的方式，很方便的和zaber所有的电动平移台衔接。他集成于一体的的线性编码器可实现1μm的位置精度和一致的移动步长，步长低至25 nm（Minimum Incremental Move），80nm的高重复精度（Repeatability）。

X-LDM-AE采用高效无铁芯马达，提供高速和加速同时最大限度地减少热量产生，从而提高可重复性。驱动器和编码器都是非接触式的，没有移动电缆，因此系统寿命很长。

有限行程的需求下,移动式磁道平移台可以提供更高的精度。因为平移台移动的部分是与电流及热源区隔分开的，使得移动能有更好的热稳定性及更低的电噪声干扰。并且stationary forcer是通电后会产生热的装置，被固定在当作散热器的系统底部，这也使得整个系统拥有更好的热稳定性。

X-LDM-AE仅需要标准的48 V电源。它们可连接到计算机的RS-232接口或USB接口，并且可以与任何其他Zaber产品进行多轴连接。并共享电源，使多个X系列产品可以共享一个电源。与Zaber的所有产品一样，X-LDM-AE系列设计为“即插即用”，易于设置和操作。X-LDM-AE设备还包括一个数字输入和两个数字输出，用于连接外部系统。X-LDM-AE方便使用于各种量测和真空实验，PL和EL实验还有自动化设备等应用上。

X-LDM-AE高精度电控平移台特点

- 高重复性80nm和精度1μm，Min增量移动25 nm

- 1 nm分辨率并有线性编码器

- 速度最快可达1.2M/秒，加速度高达3.5g

- 60,110,210 mm三种行程选择

- 内置控制器; 并可与其他Zaber平台多轴串接

- 非接触式无铁芯直线电机，具有超精密，高动态和零间隙

- 一个数字输入和两个数字输出

- 可组合成双轴XY

重复性Repeatability：

在稳定条件下，指示设备移动到目标位置反复100次（每次从相同方向接近）时，实际位置的的偏差。

精度（单向）Accuracy (unidirectional)：

当从相同方向，在任何两个位置之间移动时可能出现的误差。

增量移动Minimum Incremental Move：

定位轴增量移动的步长（Min机械增量）。

X-LDM-AE高精度电控平移台规格参数：

X-LDM-AE规格	参数
Built-in Controller	Yes
精度（单向）	1 µm
重复性	< 0.08 µm
Min增量移动	25 nm
Max速度	1200 mm/s
Min速度	0.000001 mm/s
Speed Resolution	0.000001 mm/s
Encoder Count Size	1 nm
编码器类型	Linear analog encoder
峰值推力	60 N
峰值连续推力	35 N
通讯接口类型	RS-232
通讯协议	Zaber ASCII (Default)
Maximum Centered Load	120 N
Maximum Cantilever Load	1200 N⋅cm
Guide Type	Crossed-Roller Bearing
Maximum Current Draw	3000 mA
电源大小	48 VDC
电源插头	2-pin screw terminal
马达电机类型	Moving Magnet Track Linear Motor
马达电机额定电流	2400 mA/phase
电感	1.24 mH/phase
数据线	Locking 4-pin M8
Limit or Home Sensing	Optical Index Mark
手动控制	带按钮的分度旋钮
Axes of Motion	1
LED指示灯	Yes
安装接口	M6 threaded holes
工作温度范围	10 to 40 °C
真空兼容	No
RoHS Compliant	Yes
CE Compliant	Yes
Digital Input	1
Digital Output	2

X-LDM-AE高精度线性平移台参数对比：

型号	行程	Max加速度	垂直抖动偏差	水平抖动偏差
X-LDM060C-AE54	60 mm (2.362 ")	34.3 m/s2 (3.50 g)	< 4 µm (< 0.000157 ")	< 3 µm (< 0.000118 ")
X-LDM110C-AE54	110 mm (4.331 ")	24.5 m/s2 (2.50 g)	< 4 µm (< 0.000157 ")	< 3 µm (< 0.000118 ")
X-LDM210C-AE54	210 mm (8.268 ")	14.7 m/s2 (1.50 g)	< 8 µm (< 0.000315 ")	< 5 µm (< 0.000197 ")
X-LDM060C-AE54D12	60 mm (2.362 ")	34.3 m/s2 (3.50 g)	< 4 µm (< 0.000157 ")	< 3 µm (< 0.000118 ")
X-LDM110C-AE54D12	110 mm (4.331 ")	24.5 m/s2 (2.50 g)	< 4 µm (< 0.000157 ")	< 3 µm (< 0.000118 ")
X-LDM210C-AE54D12	210 mm (8.268 ")	14.7 m/s2 (1.50 g)	< 8 µm (< 0.000315 ")	< 5 µm (< 0.000197 ")
型号	Pitch	Roll	Yaw	Moving Mass
X-LDM060C-AE54	0.003 ° (0.052 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	1.74 kg (3.828 lbs)
X-LDM110C-AE54	0.005 ° (0.087 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	2.29 kg (5.038 lbs)
X-LDM210C-AE54	0.01 ° (0.174 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	3.17 kg (6.974 lbs)
X-LDM060C-AE54D12	0.003 ° (0.052 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	1.74 kg (3.828 lbs)
X-LDM110C-AE54D12	0.005 ° (0.087 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	0.002 ° (0.035 mrad)	2.29 kg (5.038 lbs)
X-LDM210C-AE54D12	0.01 ° (0.174 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	0.005 ° (0.087 mrad)	3.17 kg (6.974 lbs)

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